半导体杂质试验

检测项目

1.金属杂质分析：钠，钾，钙，镁，铁，铜，镍，锌，铝，铬等杂质元素测定。

2.重金属痕量测定：铅，镉，汞，砷，铊，锑等痕量有害元素测定。

3.非金属杂质检测：硼，磷，硫，氯，氟，碳，氧，氮等杂质含量分析。

4.掺杂元素检测：硼掺杂，磷掺杂，砷掺杂，锑掺杂，镓掺杂浓度测定。

5.离子污染检测：铵根，钠离子，钾离子，钙离子，镁离子，氯离子，硝酸根，硫酸根残留分析。

6.颗粒污染检测：颗粒数量，颗粒尺寸分布，表面颗粒密度，微粒沉积情况测定。

7.表面残留检测：有机残留，无机残留，清洗残留，蚀刻残留，抛光残留分析。

8.气体杂质检测：水分，氧含量，总烃，二氧化碳，一氧化碳，硫化物，氮氧化物分析。

9.液体化学品纯度检测：酸中杂质，碱中杂质，溶剂中杂质，微量金属，阴阳离子含量测定。

10.固体材料杂质检测：晶体材料杂质，靶材杂质，薄膜材料杂质，封装材料杂质分析。

11.表面元素污染分析：表面金属沾污，表面卤素污染，表面氧化层杂质，界面元素分布测定。

12.痕量有机污染物检测：挥发性有机物，半挥发性有机物，工艺有机残留，助剂残留分析。

检测范围

硅单晶、硅片、外延片、抛光片、刻蚀片、光刻胶、电子特气、超纯水、酸性清洗液、碱性清洗液、有机溶剂、溅射靶材、蒸发材料、封装基板、引线框架、键合丝、焊料、陶瓷封装材料、树脂封装料、薄膜材料

检测设备

1.电感耦合等离子体质谱仪：用于痕量金属元素与超痕量杂质元素的定量分析，适合高纯材料杂质测定。

2.电感耦合等离子体发射光谱仪：用于多元素同时分析，适用于半导体材料中常量与微量元素测定。

3.离子色谱仪：用于阴离子与阳离子杂质分析，可检测清洗液和超纯水中的离子污染。

4.气相色谱仪：用于挥发性杂质与有机残留分析，适合气体和有机溶剂样品检测。

5.液相色谱仪：用于液体化学品中有机杂质分离与测定，适用于复杂基体样品分析。

6.总有机碳分析仪：用于测定液体样品中的有机碳总量，测试超纯水和化学试剂洁净水平。

7.激光颗粒计数器：用于颗粒数量和粒径分布测定，适合洁净工艺介质与表面污染测试。

8.二次离子质谱仪：用于材料表面及浅层杂质元素分析，可开展深度分布与界面污染研究。

9.辉光放电质谱仪：用于高纯固体材料的痕量元素分析，适用于靶材和块体材料杂质筛查。

10.傅里叶变换红外光谱仪：用于表面有机残留与官能团识别，可辅助分析污染物组成特征。

北京中科光析科学技术研究所【简称：中析研究所】

报告：可出具第三方检测报告(电子版/纸质版)。

检测周期：7~15工作日，可加急。

资质：旗下实验室可出具CMA/CNAS资质报告。

标准测试：严格按国标/行标/企标/国际标准检测。

非标测试：支持定制化试验方案。

售后：报告终身可查，工程师1v1服务。

注意:因业务调整,暂不接受个人委托测试,望谅解(高校、研究所等性质的个人除外).

CMA/CNAS等证书详情，因时间等不可抗拒因素会发生变更，请咨询在线工程师.